高功率脈沖磁控濺射電源是一類高功率密度的脈沖等離子體電源，極大的改善薄膜沉積工藝。采用高功率脈沖電源的磁控濺射，極大的提高等離子體密度，從而加快了薄膜沉積速率，可以形成致密，光滑且高附和的高質量薄膜。
HOIZY提供基于高功率脈沖磁控濺射的高能脈沖電源，配合先進的過程控制，為客戶提供最先進的薄膜工藝。
高功率脈沖磁控濺射電源
單極性脈沖源
| HiPSTER 1： | 參數 | 指標 |
| 平均功率 | 1000 W | |
| 峰值電壓 | 1000 V | |
| 峰值電流 | 100 A | |
| 脈沖頻率 | 1 Hz-10 KHz | |
| 脈沖寬度 | 2.5 ~ 1000 μs | |
| 調整模式 | 電壓，電流，功率，脈沖電流 |
| HiPSTER 6： | 參數 | 指標 |
| 平均功率 | 6000 W | |
| 峰值電壓 | 1000 V | |
| 峰值電流 | 600 A | |
| 脈沖頻率 | 1 Hz – 10 KHz | |
| 脈沖寬度 | 2.5 ~ 1000 μs | |
| 調整模式 | 電壓，電流，功率，脈沖電流 |
*以上高壓脈沖電源為標準型號，可根據用戶需求提供半定制，與定制.
| HiPSTER 10： | 參數 | 指標 |
| 平均功率 | 10 KW | |
| 峰值電壓 | 1000 V | |
| 峰值電流 | 1000 A | |
| 脈沖頻率 | 50 Hz-10 KHz | |
| 脈沖寬度 | 3.5 ~ 1000 μs | |
| 調整模式 | 電壓，電流，功率，脈沖電流 |
| HiPSTER 25： | 參數 | 指標 |
| 輸出功率 | 25 KW | |
| 工作模式 | 單極性HiPIMS、雙極性HiPIMS、脈沖直流 | |
| 峰值電壓 | 1000 V | |
| 峰值電流 | 1500 A | |
| 脈沖頻率 | 50 Hz-10 KHz （最高到150 kHz） | |
| 脈沖寬度 | 3.5 ~ 1000 μs | |
| 調整模式 | 電壓，電流，功率，脈沖電流、脈沖電荷 |
Ionautics HiPIMS電源主要特點
- 高魯棒性、提供極穩定的放電過程（恒定的放電電壓、無不希望振蕩）
- 支持外同步、多設備協同
- 基于新的切換技術，最高重頻10 kHz
- 可以匹配寬范圍尺寸的靶材、以及不同類型的反應過程（包括：reactive HiPIMS）
- 實時監測反應過程的電壓與電流
Ionautics HiPIMS電源的主要應用
- 硬涂層（Hard Coating）:通過反應物沉積形成更光滑、更致密的化合物涂層；以達到增加表面硬度、更耐腐蝕、降低摩擦等作用
- 光學涂層（Optical Coating）：改善光學性能；如：更平滑的表面、更致密的結構
- 擴散屏障（Diffusion barriers）：HiPIMS形成的更高涂層密度，確保更有效的屏障效果
- 電氣涂層（Electrical Coating）：改善導電性，以至可以降低涂層厚度和減少熱負荷；當然，也可以改善絕緣性能
- 3-D涂層（3-D Coating）：在復雜形狀的表面形成均勻的薄膜涂層
