雙極性脈沖磁控濺射電源是基于新一代磁控濺射技術(shù)，在極富經(jīng)驗(yàn)的沉積專家努力下，設(shè)計(jì)出在等離子工藝開發(fā)和薄膜沉積方面擁有初設(shè)的追索性能，以生成穩(wěn)健且可重復(fù)的 HiPIMS 工藝。
雙極性脈沖磁控濺射源
主要特設(shè)
固有離子加速功能
雙極性電源實(shí)現(xiàn)離子加速，無需附加基板偏置
極強(qiáng)的穩(wěn)定性和魯棒性
特有的放電過程控制，具有恒定的電壓以及干凈的波形（無振蕩）
支持外部觸發(fā)
支持外部觸發(fā)控制，可通過主從配置，實(shí)現(xiàn)多臺(tái)級(jí)聯(lián)使用
與直流電源松耦合
雙極性的Biploar Hipster可以匹配任意的前級(jí)直流電源（正負(fù)DC直流源各一臺(tái)），也可以匹配Ionautics的專用直流電源。
反應(yīng)過程控制
“反應(yīng)過程控制”選件，可以幫助過渡模式的穩(wěn)定運(yùn)行，對(duì)保持化學(xué)計(jì)量組成的反應(yīng)氣流具有較大的容忍。
雙極性脈沖源主要參數(shù)
主要應(yīng)用領(lǐng)域
硬圖層
得到更加致密、光滑的復(fù)合涂層，可以增加圖層的硬度、減少表面的摩擦以及增加抗腐蝕性
光學(xué)涂層
通過改善涂層的致密結(jié)構(gòu)和光滑性，大幅度地提高其光學(xué)特性
擴(kuò)散勢(shì)壘（擴(kuò)散屏障）
通過增加涂層的密度以及均勻性改善擴(kuò)散屏障的效果
電子涂層
既增加器件的導(dǎo)電性，同時(shí)又能降低涂層的厚度和熱效應(yīng)；還能保證電氣的高壓隔離
3D涂層
在復(fù)雜形狀的基材上實(shí)現(xiàn)均勻的薄膜
實(shí)測波形
